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在超純水處理中,顆粒是如何去除的?
在高度精密的芯片制造過(guò)程中,即使是微小的顆粒(Particle)也可能會(huì)導(dǎo)致重大問(wèn)題。顆�?赡軙�(huì)在光刻、蝕刻、沉積等環(huán)節(jié)中引起缺陷,如開(kāi)路或短路。顆粒附著在晶圓上可能導(dǎo)致電路圖案不完整,影響芯片的電氣性能和可靠性。在電子超純水處理制程中,顆粒會(huì)去除到很低的水平。那么,我們通過(guò)怎樣的步驟才能去除這些顆粒呢?
在超純水處理中,顆粒的去除通常涉及以下幾個(gè)關(guān)鍵步驟和技術(shù):
1. 預(yù)處理階段:這可能包括多介質(zhì)過(guò)濾器,使用砂濾、碳濾或其他材料的濾層來(lái)去除水中的大顆粒雜質(zhì)、懸浮物和部分有機(jī)物。
2. 精密過(guò)濾:采用更細(xì)的過(guò)濾器,如5微米乃至更小孔徑的PP濾芯或精密過(guò)濾器,可以攔截更小的顆粒物。
3. 反滲透(RO):反滲透膜具有非常緊密的孔結(jié)構(gòu),一般可以阻擋所有溶解性的大分子及絕大部分的鹽分和顆粒,對(duì)于粒徑大于其膜孔徑的顆粒有極高的去除效率。
4. 超濾(UF):雖然在某些超純水系統(tǒng)中可能不是必須的,但超濾可以作為反滲透前的預(yù)處理或特定應(yīng)用中去除病毒和更細(xì)小顆粒的有效手段。
5. 離子交換(IX):雖然主要針對(duì)無(wú)機(jī)離子,離子交換樹(shù)脂床在某些情況下也能去除水中的微小顆粒。
6. 連續(xù)電去離子(EDI):EDI單元通過(guò)電場(chǎng)作用下離子交換樹(shù)脂的連續(xù)再生過(guò)程高效去除離子,同時(shí),水流經(jīng)EDI模塊時(shí),部分顆粒物也可能因電荷作用而被去除。
7. 終端過(guò)濾:使用0.22微米甚至更小孔徑的絕對(duì)過(guò)濾器(如終端過(guò)濾器、除菌過(guò)濾器)來(lái)去除殘留的微粒、細(xì)菌等,確保最終水質(zhì)的無(wú)菌狀態(tài)和極低顆粒水平。
8. 紫外消毒(UV):雖然UV主要用于滅活微生物,但它也可以間接幫助去除某些通過(guò)光解作用變得更大而易于過(guò)濾的有機(jī)顆粒。
通過(guò)這些綜合技術(shù)的應(yīng)用,超純水系統(tǒng)能夠達(dá)到極高純度,有效去除水中的各種顆粒物,滿(mǎn)足科研、半導(dǎo)體制造、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域的嚴(yán)格要求。