在高度精密的芯片制造過(guò)程中，即使是微小的顆粒（Particle）也可能會(huì)導(dǎo)致重大問(wèn)題。顆�？赡軙�(huì)在光刻、蝕刻、沉積等環(huán)節(jié)中引起缺陷，如開(kāi)路或短路。顆粒附著在晶圓上可能導(dǎo)致電路圖案不完整，影響芯片的電氣性能和可靠性。在電子超純水處理制程中，顆粒會(huì)去除到很低的水平。那么，我們通過(guò)怎樣的步驟才能去除這些顆粒呢？

在超純水處理中，顆粒的去除通常涉及以下幾個(gè)關(guān)鍵步驟和技術(shù)：

1. 預(yù)處理階段：這可能包括多介質(zhì)過(guò)濾器，使用砂濾、碳濾或其他材料的濾層來(lái)去除水中的大顆粒雜質(zhì)、懸浮物和部分有機(jī)物。

2. 精密過(guò)濾：采用更細(xì)的過(guò)濾器，如5微米乃至更小孔徑的PP濾芯或精密過(guò)濾器，可以攔截更小的顆粒物。

3. 反滲透（RO）：反滲透膜具有非常緊密的孔結(jié)構(gòu)，一般可以阻擋所有溶解性的大分子及絕大部分的鹽分和顆粒，對(duì)于粒徑大于其膜孔徑的顆粒有極高的去除效率。

4. 超濾（UF）：雖然在某些超純水系統(tǒng)中可能不是必須的，但超濾可以作為反滲透前的預(yù)處理或特定應(yīng)用中去除病毒和更細(xì)小顆粒的有效手段。

5. 離子交換（IX）：雖然主要針對(duì)無(wú)機(jī)離子，離子交換樹(shù)脂床在某些情況下也能去除水中的微小顆粒。

6. 連續(xù)電去離子（EDI）：EDI單元通過(guò)電場(chǎng)作用下離子交換樹(shù)脂的連續(xù)再生過(guò)程高效去除離子，同時(shí)，水流經(jīng)EDI模塊時(shí)，部分顆粒物也可能因電荷作用而被去除。

7. 終端過(guò)濾：使用0.22微米甚至更小孔徑的絕對(duì)過(guò)濾器（如終端過(guò)濾器、除菌過(guò)濾器）來(lái)去除殘留的微粒、細(xì)菌等，確保最終水質(zhì)的無(wú)菌狀態(tài)和極低顆粒水平。

8. 紫外消毒（UV）：雖然UV主要用于滅活微生物，但它也可以間接幫助去除某些通過(guò)光解作用變得更大而易于過(guò)濾的有機(jī)顆粒。

通過(guò)這些綜合技術(shù)的應(yīng)用，超純水系統(tǒng)能夠達(dá)到極高純度，有效去除水中的各種顆粒物，滿(mǎn)足科研、半導(dǎo)體制造、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域的嚴(yán)格要求。